低溫恒溫循環器的應用

低溫恒溫反應浴常應用于對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。

低溫恒溫循環器的應用

提供-40℃~105℃溫度范圍內的高、低恒溫液體，以滿足用高、低溫做反應的恒溫儀器的需要。

特別適用與化學反應釜、發酵罐、旋轉蒸發器、電子顯微鏡、阿貝折先儀、蒸發皿、生物制藥反應器等實驗設備配套使用。

先進的內循環和外循環泵系統，內循環使儀器溫度均勻恒定，外循環泵輸出16升/分~18升/分在流量高、低溫液體。8升~40升的工作槽容積內還可放入裝有生化試劑或被測樣品的各種容器，直接進行高低溫試驗或測試，實現一機多用

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